A水量；水质
B水质；TES
CTEA；水量
DTES；水量
EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A.水量B.水质C.TEAD.TES
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如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。A对B错
过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口
EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A、水量；水质B、水质；TESC、TEA；水量D、TES；水量
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。A、浓水B、极水C、淡水D、给水
