制取无牙下颌印模时，远中的范围是A、盖过磨牙后垫B、盖过磨牙后垫的2／3C、盖过磨牙后垫的1／2～2／3D、盖过磨牙后垫的前1／3～1／2E、暴露磨牙后垫
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制取无牙下颌印模时，远中的范围应当A.盖过磨牙后垫全部B.暴露磨牙后垫C.盖过磨牙后垫1/2D.盖过磨牙后垫的1/3E.盖过磨牙后垫的1/2～2/3
下颌基托一般应盖过磨牙后垫的()。A.全部B.2/3C.3/1~1/2D.1/4E.前缘
下颌基托一般应盖过磨牙后垫的（）。A、全部B、2/3C、1/3~1/2D、1/4E、前缘
下颌基托一般应该盖过磨牙后垫的（）A、全部B、2/3C、1/3~1/2D、1/4E、止于磨牙后垫前缘
制取无牙下颌印模时，远中的范围应当（）A、盖过磨牙后垫全部B、暴露磨牙后垫C、盖过磨牙后垫1/2D、盖过磨牙后垫的1/3E、盖过磨牙后垫的1/2～2/3
下颌基托一般应盖过磨牙后垫的（）A、全部B、2/3C、1/3至1/2D、1/4E、止于磨牙后垫前缘
