改良生物调节器下切牙帽唇侧应（）
制取无牙下颌印模时，远中的范围是A.盖过磨牙后垫 B.盖过磨牙后垫的2/3 C.盖过磨牙后垫的1/2～2/3 D.盖过磨牙后垫的前1/3～1／2 E.暴露磨牙后垫
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制取无牙下颌印模时，远中的范围应当（）A、盖过磨牙后垫全部B、暴露磨牙后垫C、盖过磨牙后垫1/2D、盖过磨牙后垫的1/3E、盖过磨牙后垫的1/2～2/3
改良生物调节器下切牙帽唇侧应（）A、盖过1／3牙冠高度B、盖过1／4牙冠高度C、盖过2／3牙冠高度D、盖过1／5牙冠高度E、盖过1／2牙冠高度
单选题改良生物调节器下切牙帽唇侧应（）。A 盖过1／3牙冠高度B 盖过1／4牙冠高度C 盖过2／3牙冠高度D 盖过1／5牙冠高度E 盖过1／2牙冠高度
